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VNX50E-2膜堆產(chǎn)水流量為 50.0gpm / 11.4m3/h，是大水量 CEDI 系統(tǒng)的絕佳選擇 。
進(jìn)水要求水質(zhì)<10us/cm(請(qǐng)?jiān)旈喰弯?
回收率高達(dá)98.5～99%。
2PASS RO 產(chǎn)水水質(zhì)>17.5 megohm-cm
DI Water     產(chǎn)水水質(zhì)> 18 megohm-cm
針對(duì)大流量CEDI系統(tǒng)設(shè)計(jì)的VNX膜堆，使系統(tǒng)設(shè)計(jì)施工上更加簡(jiǎn)易，相對(duì)的系統(tǒng)的造價(jià)成本也會(huì)明顯的降低。
VNX運(yùn)用于半導(dǎo)體,光電,電廠等需要大量去離子水的行業(yè)。
VNX作為一種清潔、對(duì)環(huán)境友好的技術(shù)，相對(duì)需要化學(xué)藥劑再生的混床更有優(yōu)勢(shì)。
采用大流量的CEDI膜堆可以使系統(tǒng)的配管更少，系統(tǒng)設(shè)計(jì)施工更加簡(jiǎn)單。
 
產(chǎn)品特性如下：
Silica (SiO2) Removal ≥ 95%
Boron (B) Removal ≥ 95%
Sodium (Na) Removal 99.8%
Chloride (Cl) Removal 99.8%
? 不需要化學(xué)藥劑再生
? 雙O型止水環(huán)密封，保證不泄漏
? 無(wú)須注鹽系統(tǒng)
? 可在100psi（7bar），113F(45C)環(huán)境下連續(xù)運(yùn)行
? 全填充式專利設(shè)計(jì)
? 低的運(yùn)行成本