發(fā)布日期:2019-11-08
西門子膜塊維修根據(jù)西門子EDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。清洗時(shí),EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI,從“
發(fā)布日期:2019-11-06
西門子膜塊維修在edi凈水設(shè)備中西門子edi膜塊是其中的主要部件,西門子edi膜塊一旦發(fā)生故障,就會(huì)導(dǎo)致整個(gè)水處理系統(tǒng)水質(zhì)會(huì)下降。引起edi凈水設(shè)備主要部件膜塊故障的常見原因有以下幾點(diǎn):?西門子膜塊維修EDI裝置出現(xiàn)故障
發(fā)布日期:2019-11-06
拋光樹脂目前部分國內(nèi)用戶對(duì)拋光混床樹脂的了解過于單一,比如一些用戶(比如實(shí)驗(yàn)室用水)認(rèn)為自己的用水量不大,設(shè)備不帶再生能力,而對(duì)出水指標(biāo)要求又比較高,所以把一切要求都寄托于拋光混床樹脂的處理上,其實(shí)這種想法是
發(fā)布日期:2019-11-04
拋光樹脂的分層一般分以下幾個(gè)原因引起:1)很多用戶為了樹脂在裝填時(shí)能同步排除樹脂層縫隙中的氣泡,從而降低沖洗時(shí)間和降低水耗,提高樹脂交換容量的利用率,于是在初次裝填時(shí)在拋光柱內(nèi)注水,有時(shí)由于注水過高(一般要求
發(fā)布日期:2019-10-31
edi維修EDI,全稱Electrodeionization,譯名“連續(xù)電除鹽(填充床電滲析)”,是利用混合離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子,同時(shí)這些被吸附的離子交換樹脂在直流電的作用下分別通過陰陽離子交換膜而被除去的過程。據(jù)悉,ED
發(fā)布日期:2019-10-30
edi維修現(xiàn)在應(yīng)用的水質(zhì)污染現(xiàn)象嚴(yán)峻,在一些工業(yè)生產(chǎn)和生活用水都選擇使用EDI工業(yè)超純水設(shè)備來改善水質(zhì),但使用一段時(shí)間后,因?yàn)樗械碾s質(zhì)會(huì)存留在膜的表面,造成污染就需要進(jìn)行更換,那么EDI工業(yè)超純水設(shè)備多久更換一次
發(fā)布日期:2019-10-29
1、西門子EDI模塊長(zhǎng)期在大電流,低于額定流量情況下運(yùn)行會(huì)導(dǎo)致?lián)p壞。2、西門子EDI模塊長(zhǎng)期沒有清洗保養(yǎng)下會(huì)導(dǎo)致?lián)p壞。3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)會(huì)導(dǎo)致?lián)p壞。4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?,直接?dǎo)致EDI樹脂破碎5、西
發(fā)布日期:2019-10-28
EDI維修-如今,環(huán)境污染問題沒有得到很好的解決,越來越多的純化水設(shè)備出現(xiàn)在了各種生產(chǎn)中,其中工業(yè)生產(chǎn)中純水去離子設(shè)備也大量出現(xiàn)在生產(chǎn)中,純水去離子設(shè)備在使用過程中,正確的操作流程非常重要-西門子膜塊維修。?EDI
發(fā)布日期:2019-10-24
羅門哈斯樹脂-我國用于煤泥水處理的絮凝劑可分為兩大類:一是無機(jī)鹽類絮凝劑,二是有機(jī)高分子絮凝劑。無機(jī)鹽類絮凝劑的作用機(jī)理是無機(jī)鹽在水中解離成離子,與煤泥微?;蛎耗嗄z體接觸作用,中和了煤泥表面的電性,降低表面
發(fā)布日期:2019-10-24
從冷卻水中去除成垢鈣離子?從水中除去Ca2+,使水軟化,則碳酸鈣就無法結(jié)晶析出,也就形不成水垢,主要兩種方法。?羅門哈斯樹脂-水垢的控制方法-UP6040①離子交換樹脂法?離子交換樹脂法就是讓水通過離子交換樹脂,將Ca2+、
發(fā)布日期:2019-10-24
冷卻水占工業(yè)用水主體,提高其重復(fù)利用率、循環(huán)使用是節(jié)水節(jié)能的必須手段。?UP6040-循環(huán)水運(yùn)行過程中常產(chǎn)生的問題-拋光樹脂在工業(yè)生產(chǎn)的工藝條件下,工業(yè)循環(huán)水水質(zhì)常會(huì)發(fā)生一系列變化,對(duì)生產(chǎn)造成危害,如:腐蝕、結(jié)垢、
發(fā)布日期:2019-10-21
???拋光樹脂UP6040羅門哈斯樹脂羅門哈斯混床樹脂AMBERJETUP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理以保證離子的低平衡泄漏。在進(jìn)水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計(jì)情況下,UP6150的出水電阻率能達(dá)到18MΩ.C,其二氧化硅系統(tǒng)中
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